标准简介：本标准规定了用原子力显微镜测试氮化镓单晶衬底表面粗糙度的方法。本标准适用于化学气相沉积及其他方法生长制备的表面粗糙度小于10nm 的氮化镓单晶衬底。其他具有相似表面结构的半导体单晶衬底应用本标准提供的方法进行测试前,需经测试双方协商达成一致。

标准号：GB/T 32189-2015

标准名称：氮化镓单晶衬底表面粗糙度的原子力显微镜检验法

英文名称：Test method for surface roughness of GaN single crystal substrate by atomic force microscope

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2015-12-10

实施日期：2016-11-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法

国际标准分类号（ICS）：冶金>>77.040金属材料试验

起草单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州纳维科技有限公司

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会 (SAC/TC203)与全

发布单位：国家质量监督检验检疫.

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