标准简介：本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。本文件适用于以下情形：——原子序数从16（S）到92（U）的元素；——原子表面密度介于1×1010 atoms/cm2~1×1014 atoms/cm2之间的污染元素；——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108 atoms/cm2~5×1012 atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。

标准号：GB/T 40110-2021

标准名称：表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染

英文名称：Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2021-05-21

实施日期：2021-12-01

中国标准分类号（CCS）：化工>>化工综合>>G04基础标准与通用方法

国际标准分类号（ICS）：化工技术>>分析化学>>71.040.40化学分析

起草单位：中国计量科学研究院、华南理工大学

归口单位：全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)

发布单位：国家市场监督管理总局.

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