碲化钼掺杂检测报告如何办理？检测项目及标准有哪些？百检第三方检测机构，严格按照碲化钼掺杂检测相关标准进行测试和评估。做检测，找百检。我们只做真实检测。

涉及碲化钼掺杂的标准有62条。

国际标准分类中，碲化钼掺杂涉及到半导体材料、分析化学、绝缘流体、黑色金属、有色金属、有色金属产品、光纤通信、化工产品、实验室医学、航空航天用电气设备和系统、表面处理和镀涂、土方工程、挖掘、地基构造、地下工程。

在中国标准分类中，碲化钼掺杂涉及到林产化工原料、半金属与半导体材料综合、电子光学与其他物理光学仪器、金属物理性能试验方法、半导体分立器件综合、稀有高熔点金属及其合金、稀土金属及其合金、重金属及其合金、重金属及其合金分析方法、基础标准与通用方法、金属与合金粉末、光通信设备、金属化学分析方法综合、化学、工业气体与化学气体、基础标准与通用方法、机械配件、构件、轻金属及其合金、电子技术专用材料、地基、基础工程、肥料与土壤调理剂、元素半导体材料。

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于碲化钼掺杂的标准

GB/T 33025-2016松脂掺杂评估方法

GB/T 33030-2016松脂中淀粉类掺杂物鉴别方法

GB/T 33028-2016松脂中工业盐掺杂物鉴别方法

国家质检总局，关于碲化钼掺杂的标准

GB/T 13389-2014掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程

GB/T 14847-2010重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

GB/T 20176-2006表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

GB/T 17170-1997非掺杂半绝缘砷化镓单晶深能级EL2浓度红外吸收测试方法

GB/T 14847-1993重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

GB/T 13389-1992掺硼碜磷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程

GB/T 4189-1984掺杂钨条

GB/T 4190-1984掺杂钼条

工业和信息化部，关于碲化钼掺杂的标准

XB/T 520-2021铈掺杂钆镓铝石榴石多晶闪烁体

YS/T 1441-2021掺杂型四氧化三钴

YS/T 1339-2019掺杂型镍钴锰三元素复合氢氧化物化学分析方法 铝、镁、钛、锶、锆、镧、钇含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法

英国标准学会，关于碲化钼掺杂的标准

BS ISO 13083-2015表面化学分析. 扫描式探针显微术. 电子扫描式探针显微术 (ESPM), 例如用于二维掺杂成像等用途的SSRM和SCM, 中空间分辨率的定义和校准标准

BS ISO 13083-2015表面化学分析. 扫描式探针显微术. 电子扫描式探针显微术 (ESPM), 例如用于二维掺杂成像等用途的SSRM和SCM, 中空间分辨率的定义和校准标准

BS PD IEC/TR 62627-03-03-2013纤维光学互连器件和无源元件. 可靠性. 掺杂金属光纤插头样式光学衰减器的高功率可靠性报告

BS ISO 14237-2010表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

BS ISO 14237-2010表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

国际标准化组织，关于碲化钼掺杂的标准

ISO 13083:2015表面化学分析.扫描探针显微镜.用于2D掺杂成像和其他目的的电扫描探针显微镜（ESPM）的空间分辨率定义和校准标准 如SSRM和SCM

ISO 13083-2015表面化学分析. 扫描式探针显微术. 电子扫描式探针显微术 (ESPM), 例如用于二维掺杂成像等用途的SSRM和SCM, 中空间分辨率的定义和校准标准

ISO 14237:2010表面化学分析——二次离子质谱法——用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度

ISO 14237-2010表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

ISO 14237:2000表面化学分析.二次离子质谱法.使用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度

ISO 14237-2000表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

ISO/PAS 18873-1999掺杂控制的国际协议

行业标准-有色金属，关于碲化钼掺杂的标准

YS/T 1087-2015掺杂型镍钴锰三元素复合氢氧化物

，关于碲化钼掺杂的标准

INDITECNOR 23-62ch-1956橄榄油：针对是否掺杂着其他类型油或者色料的检验方法

INDITECNOR 23-59ch-1956食用植物油：对带染料和带动物油或者矿物油的掺杂进行测量

国际电工委员会，关于碲化钼掺杂的标准

IEC TR 62627-03-03:2013纤维光学互连器件和无源元件第03-03部分:可靠性金属掺杂光纤插塞式光衰减器的高功率可靠性报告

IEC TR 62627-03-03-2013纤维光学互连器件和无源元件第03-03部分:可靠性金属掺杂光纤插塞式光衰减器的高功率可靠性报告

IEC/TR 62627-03-03-2013光导互联装置和无源部件.第03-03部分:可靠性.掺杂金属光纤插头样式光学衰减器的高功率可靠性报告

行业标准-建材，关于碲化钼掺杂的标准

JC/T 2132-2012钛酸锶钡中掺杂元素和微量元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法

法国标准化协会，关于碲化钼掺杂的标准

NF X21-070-2010表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.

NF P94-242-1-1993掺杂法土壤加固.拔钉法.恒定位移速率试验

NF P94-210-1992掺杂法土壤加固.总则和术语

美国材料与试验协会，关于碲化钼掺杂的标准

ASTM E1438-2006用次级离子质谱法(SIMS)测量深度掺杂分布界面宽度标准指南

ASTM F1594-1995(2003)真空镀膜用纯铝(未掺杂质)原材料标准规范

ASTM F1594-1995(2011)真空镀膜用纯铝(未掺杂质)原材料标准规范

ASTM F1366-92(1997)e1用二次离子质谱法测量重掺杂硅衬底中氧浓度的标准试验方法

ASTM F1366-1992(1997)e1用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法

韩国标准，关于碲化钼掺杂的标准

KS D ISO 14237-2003表面化学分析.次级离子质谱法.使用非均一掺杂材料的硅中硼原子的浓度测定

KS D ISO 14237-2003表面化学分析.次级离子质谱法.使用非均一掺杂材料的硅中硼原子的浓度测定

德国标准化学会，关于碲化钼掺杂的标准

DIN 50450-9-2003半导体工艺材料测试.载气和掺杂气体杂质测定.第9部分:用气相色谱法测定气态氯化氢中氧、氮、一氧化碳、二氧化碳、氢和C<下标1>-C<下标3>-烃类含量

DIN 50450-4-1993半导体工艺材料的检验.运载气体和掺杂剂气体中杂质的测定.用气相色谱法测定氮气中C1－C3烃类化合物

DIN 50445-1992半导体工艺材料检验.用涡流法无接触测定电阻率.均匀掺杂半导体片

DIN 50439-1982半导体技术材料的试验.用电容--电压法和水银接点确定单晶层半导体材料中掺杂剂的浓度分布曲线

日本工业标准调查会，关于碲化钼掺杂的标准

JIS K0143-2000表面化学分析.次级离子质谱法.利用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度

(美国)海*，关于碲化钼掺杂的标准

NAVY MIL-P-24377 A NOTICE 2-1998润滑表面掺杂聚四氟乙烯,石棉编绳组装材料

NAVY MIL-P-24377 A VALID NOTICE 1-1988润滑表面掺杂聚四氟乙烯,石棉编绳组装材料

NAVY MIL-P-24377 A-1982润滑表面掺杂聚四氟乙烯,石棉编绳组装材料

行业标准-林业，关于碲化钼掺杂的标准

LY/T 2561-2015松脂中工业盐掺杂物鉴别方法

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